優秀賞

マイクロアイスジェットによる超精密洗浄技術の開発

受賞者 岡元　浩幸　：他4名
所属企業等 リックス株式会社　：他1団体
所在 福岡県福岡市

案件概要

  • 　半導体の微細化により、製造における異物除去のために洗浄工程の重要性が増している。受賞者らは特殊なラバルノズルを用いて圧縮空気と水をノズル内に供給し、氷粒子や過冷却水滴からなる「マイクロアイスジェット」を生成、超音速で噴射する超精密洗浄技術を実用化した。液体窒素や液化炭酸ガスなどの冷媒を使わないため、低コストかつ高精度な洗浄を実現。ナノスケールの異物除去性能で、環境負荷も小さく、海外の大手半導体製造メーカーにも採用され、開発競争における差別化技術となっている。他分野への応用や次世代半導体向けノズルの開発も進めていく。
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